北方华创Al Pad PVD成功进驻上海集成电路研发中心

日前,由北方华创自主开发的Al Pad PVD成功进驻上海集成电路研发中心。

北方华创Al Pad PVD设备主要应用于90-14nm技术节点的Bond Pad和Al Interconnect工艺,设备突破了大产能传输平台、高温静电卡盘、先进磁控溅射源等一系列关键技术,解决了厚铝粘片、晶须缺陷等世界性技术难题。客户遍及Logic、DRAM、Nor flash、3D NAND、FPD等领域,并且已成为多家集成电路制造企业的Baseline设备。Al Pad PVD设备良好的用户口碑和客户端稳定量产的卓越表现,为其赢得了国内外知名厂商的肯定和好评。同时,该设备也凭借优异的机台表现和广泛的市场认可荣获了首届集成电路产业联盟创新奖。

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